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| 发货期限: 自买家付款之日起 天内发货 | 所在地: 山东 青岛市 |
| 有效期至： 长期有效 | 品牌： |
详情介绍
扩散炉是半导体器件及大规模集成电路制造过程中用于对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的一种热加工设备。其组成有：加热炉（扩散炉主机）、净化工作台、送片系统（推拉舟系统）、气源系统、控制系统等。
可配工艺管外径：2-8英寸
可配工艺管数量：1-4管/台
工作温度范围：400-1300℃
恒温区长度及精度：300-1000mm800-1300℃±0.5℃
单点温度稳定性：800-1300℃±0.5℃/24h
最大可控升温速度：15℃/min
最大降温速度：5℃/min
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