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该设备用于薄膜处理，性能卓越，代表性用户如：法国科学研究中心（CNRS）、意法半导体（ST） 系统简单配置如下： Load lock
真空系统: 机械泵Oil pump/Dry pump + 涡轮分子泵/低温泵/电磁泵离子枪: DC / RF 均匀性：100 mm衬底 +/- 4%, 刻蚀速率降低均匀性优于+/-2% 衬底尺寸：4英寸衬底（4-12英寸可选），水冷。 终端检测系统：SIMS 或激光干涉仪。 控制方式：全自动电脑控制，半自动或手动控制可选。
供应法国品牌MU400高性能离子减薄仪/离子研磨机