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产品概述
半导体硅行业对于生产工艺有着极为严格的要求，长期以来由于PSA空分设备的技术局限性，生产的氮气不能完全满足其需要，因此在工业上一直使用昂贵的液氮作为保护氛围。对此，珂力公司经过近两年的研发，在一般通用制氮装置的基础上，根据半导体硅行业对氮气的特殊要求，成功研制出了专用的配套制氮装置。
2005年，全球首例应用于半导体级多晶硅PSA制氮系统在珂力研制成功，并在香港顺利投产，各大项指标顺利通过客户多方面、高标准、高精度的检测和验收，连续两年不间断、无故障运行，对整个半导体多晶硅行业与PSA制氮行业来讲是一次突破性的进展。
珂力公司目前是唯一在半导体级多晶硅行业中拥有完善技术和应用实例的PSA制氮厂家，此项技术标志着珂力公司在国际空分领域已处于领跑地位。
系统特点
按用户要求形成方案及工程施工。
全智能控制，多功能高精度检测，不间断运行。
规格为100-1500Nm3/hr按用户要求定制。