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※ 用于晶片的显影工艺，
※ 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式，
※ 清洗能力：2-8英寸晶片。
※ 需甲方提供花篮。
※ 设备形式: 室内放置型。
※ 洁净度：千级洁净室 。
※ 工艺说明:手动方式实现放片（工件），取片(工件)，槽体间传送片。
※ 工艺参数（温度，时间，DI水清洗流量，时间）手动设定。
※ 设备台面布局按用户要求配制。
CGB-XXU酸洗槽
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CGB-XXU酸洗槽
详细信息 ※ 用于晶片的显影工艺， ※ 需甲方提供花篮。 ※ 设备形式: 室内放置型。 ※ 洁净度：千级洁净室 。 ※ 工艺说明:手动方式实现放片（工件），取片(工件)，槽体间传送片。 ※ 工艺参数（温度，时间，DI水清洗流量，时间）手动设定。 ※ 设备台面布局按用户要求配制。 |