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产品展示
2-inch 至 8-inch快速热处理 (RTP). 最高至 1500°C 和 250°C/sAnnealsys快速热处理炉使用灯管加热，可用于硅、化合物半导体、光伏、MEMS及其他材料的不同应用。传统的工艺包含离子注入后退火、接触式退火、结晶化和致密化。通常也使用快速热氧化和氮化工艺。 Annealsys可提供研发快速热硒化法工艺特殊解决方案。
应用
离子注入后退火
接触式退火
结晶化 & 致密化
快速热氧化Rapid thermal oxidation (RTO)
快速热氮化Rapid thermal nitridation (RTN)
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