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JGCF-350粉体颗粒多室磁控溅射镀膜机 基本原理与功能：该系列主要由非对称双极脉冲/射频电源/振动装置/前处理室/后处理室/抽真空系统/气体流量控制器。主要用来在粉体颗粒上镀金属膜、半导体膜、化合物膜、反应膜、介质膜、多层膜等。 名称 粉体颗粒磁控溅射系列 镀膜方式 射频磁控溅射/非对称双极脉冲磁控溅射 制膜种类 金属膜、介质膜、反应膜、氧化膜 电源类型 500W双极脉冲电源1台、500W射频电源1台 溅射靶结构形式 Φ100mm永磁靶 1个 真空室结构形式 立式上下结构后置抽气系统，手动气弹簧提开式 极限真空 6×10-5Pa(分子泵)、6×10-4Pa（扩散泵） 真空系统组成 分子泵 机械泵 抽速 从大气抽到10-3Pa小于或等于20min 膜厚不均匀性 ≤±5% 工件运动方式 公转0？20rpm无级变速可调可控 真空测量方式 数显复合真空计 真空控制方式 A 、B、C型为手动控制或PLC自动控制 工艺气体控制方式 2套/3套气体控制系统，也可根据客户特殊要求定购 分子泵及靶保护 对泵、靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 用电功率 ≥12KW，占地面积：10m2。 选购件 石英晶振膜厚仪、霍尔离子源、冷却循环水机、偏压源
真空镀膜机