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【专业生产】 PVD 真空镀膜设备 磁控溅射 溅射镀膜 镀钛
PVD基本方法：真空蒸发、磁控溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）
PVD 适合对绝大多数刀具模具和部件进行沉积涂层，应用领域包括刀具和成型模具，耐磨部件，医疗装置和装饰产品。
材料包括钢质，硬质合金和经电镀的塑料。
典型涂层类型
涂层类型有 TiN, ALTIN,TiALN,CrN,CrCN,TiCN 和 ZrN
技术种类：物理气相沉积磁控溅射（Physical vapor deposition ion deposition）
适用材料：金属 陶瓷 玻璃
设备尺寸：根据客户要求，可设计各种尺寸的生产单室单门，单室双门，双室设备
控制系统：PLC控制系统（自动、手动可选）
电源：磁控溅射镀膜
设备颜色：可供客户订制
操作人员：2-3名
每小时电耗：约40KW
制作材料：碳钢或者不锈钢
工艺气体：氩气，（氮气）
配套工程：压缩空气、冷却水
占地面积：5*4*3m（长*宽*高）