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PECVD等离子体化学气相淀积设备
  产品简介：
本设备可用来淀积SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、类金刚石等多种薄膜材料,能源材料、机械材料、各种无机材料及高分子材料的薄膜制备和表面改性中，也显示出独特的功能和巨大的潜力。
本设备通过对工艺的有效控制，可获得较好的均匀性、粘附性以及较好的重复性，并广泛应用于相关领域的器件研发和制造。
  产品特点：
全面满足用户的技术指标要求，突出产品的稳定性，一致性。
工控机自动控制系统，工艺过程参数显示、修改、记录等，操作更加直观便捷。
设备操作方便，模块化设计，使用及维护方便。
方便的温区调整方式（或自动温区调整）更加快捷。
高质量的加热炉体，确保恒温区的高稳定性及长寿命。
采用工控机技术，具有可靠地恒压调整控制功能。