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   纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气泡，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能够更好地承受溅射过程中的热反应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。